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[SQL 이론] 기본문법 - Group by | Having | DDL & DML | 자료형

* Group By Group By 절을 이용하여 그룹 수준을 추가나열한 칼럼에 따라 그룹화 생성함// Group By 기본 구조select () ... from [table]GROUP BY , ORDER BY , * Having  Group By 결과에 대한 필터를 적용할 때 사용함Select 의 where과 유사한 기능select () .. from [table]where = [value]Group By , Having (col1) = * DDL :  데이터 생성 및 삭제 * DML : INSECT, DELETE, SELECT, UPDATE 데이터를 검색 후 그 기반으로 테이블을 생성할지테이블을 먼저 세팅 후에 데이터를 검색을 할지 2가지 방법으로 주로 나뉨// 테이블 생성create table ..

[SQL 이론] Select 문 - Practice 문제

Q1. nasdaq_company 전체 목록을 출력하시오.select * from nasdaq_company;Q2. nasdaq_company 에서 symbol1이 'MSFT' 인 목록을 출력하시오.ㄴselect * from nasdaq_company where symbol = 'MSFT'Q3. nasdaq_company 에서 company_name 이 'apple' 이라는 글자를 포함하는 목록을 출력하시오.select * from nasdaq_company where company_name like '%apple%'Q4. nasdaq_company 에서 symbol이 'AA'로 시작하면서 'L' 과 'Q' 를 포함하는 목록을 출력하시오.select * from nasdaq_company where sy..

[SQL 이론] 데이터베이스(DB) 기본 문법 - Select 문

* 쿼리 실행 단축키 : F5 (사용하는 프로그램마다 단축키 다름)* Select | 값을 반환하는데 사용하는 명령// 기본 구문SELECT FROM [table]WHERE = [value]ORDER BY [col]//  Part // 테이블에서 조회하고 싶은 데이터의 필드 리스트 기술 //  에서 여러개의 필드를 읽고 싶을 때 콤마로 구분해서 연결 // 테이블을 전체 조회할 때, select*from ... 필요한 컬럼만 기술해서 불필요한 데이터 조회 금지 // [table] Part // [table] 은 데이터가 저장되어 있는 테이블 이름 기술 // [table] 스키마명 적용해서 기술 가능함 ex. dbo.tbl_x // [table] AS [별칭] 으로 별명 사용 가능함 // 링크드 조회시 [..

[SQL 이론] 데이터베이스(DB) 기본 개념

DataBase (DB)논리적으로 연관된 데이터들을 모아 일정한 형태로 저장해 놓은 것응용 시스템들이 공용으로 사용하기 위해 통합, 저장한 데이터 집합Database Management Sys (DBMS)데이터베이스 관리 프로그램DBMS를 이용하여 데이터 입력, 수정, 삭제 등의 기능을 제공--> 실무에서는 DB와 DBMS를 통합해서 사용함DB 특징1) ISOS - 통합된 데이터, 저장된 데이터, 운영 데이터, 공용 데이터Integrated : 데이터 중복 최소화Stored : 컴퓨터가 접근할 수 있는 매체에 저장된 데이터Operational : 조직의 고유한 업무를 수행하는데 필요한 데이터Shared : 여러 응용 시스템이 공동으로 소유하고 유지하는 데이터2) R1C3 - 실시간 접근성, 지속적 변환,..

[모니터링] IT - IoT의 트렌드, Calm-Tech

이전 IoT 라고 한다면, "시리야, 불 켜줘", "지니야, 오늘의 날씨는?" 과 같은 명령을 하는 대신 사용자의 행동에 알맞게 알아서 해주는 방식, 즉 Calm-Tech가 IoT 의 트렌드 라고 한다.calm 은 사전을 찾아보면, 조용하다라는 뜻이다 + Tech 기술과 합쳐져서 literaly 그대로 사용자가 필요할 때 각 서비스를 제공하는 기술을 뜻한다.Designing Calm Technology.1995. 논문에서 처음 유래되었다.이 "Calm" 테크는 인간 중심적인 기술이면서 "무자각" ,"확장","융합 서비스" 의 특징이 있는데1) 무자각 : 사용자가 평소에는 인식 못하는2) 확장 : 현실과 가상이 어우러짐3) 융합 서비스 : 캄테크 기반 제 3의 기술과 융합이 calm Tech는 원래 컴퓨팅..

[반도체 공정 이론] TEST 장비 운영

TEST 공정 종류1) Probe Station : Wafer상태에서 칩 정상여부 검사* FAB 과 Package 공정 중간에 진행2) Package Test : 반도체 전후공정 후, 최종단계 Package 정상 작동 평가, 번인테스터 사용3) Module Test : PCB 반도체 소자가 여러 개 장착되어있는 모듈 사이 제대로 작동하는지 검사Wafer(EDS) TEST 공정과 수율 관계Yield (수율)  = (실제 생산된 정산 칩 수 / 설계된 최대 칩 수) * 100Clean Room 청정도, 공정장비 정확도, 공정 조건 고려Wafer(EDS) TEST 공정 수율 항상 조건Wafer Test : Wafer 완성 단계에서 이루어짐Package Test : 패키지 상태에서 이루어짐품질 Test : 소비..

[반도체 공정 이론] Cleaning 장비 운영

목적 : 반도체 공정에서 발생하는 오염을 제거하는데 사용* 오염 종류 : Particle(Pattern Defect), Metal(MOSFET 불량), Chemical(CVD 두께 불량)* 포토 공정 후 남은 PR (감광액) 찌꺼기* 식각 공정 시 제거되지 않은 산화막대표적인 장비 : Wet station | Cleaning 장비 세정 공정을 담당크게 Acid Wet Station 과 Solvent Wet Station 으로 나뉨* Solvent용은 재질이 메탈* Wet Station : 전면구조(작업공간) - 터치스크린, 파워 스위치, 후면구조(배출공간)* 내부구조 : HF, SPM, SPM(PR), QDR(Bubble), QDR, QDR방식 : 습식, 건식, 증기* 복합적인 매트릭스를 구성하여 잔류물..

[반도체 공정 이론] Etch 장비 운영

Dry Etch 장치 구성 요소PUMP, RF GENERATOR, CHILLER, PROCESS CHAMBER, GAS BOX, MAIN CONTROLLERPlasma 플라즈마고체, 액체, 기체도 아닌 "물질의 제 4상태"* 기체 상태에서 고온 또는 고전압의 에너지를 가하면 이온과 자유전자, 라디칼* 즉, 강력한 전기장 or 열원으로 전자, 중성입자, 이온이 나누어짐* 전하 분리도가 높음, 전체 음과 양의 전하수가 같아 중성 --> 어떤 원소든 플라즈마화* 전자기장으로 가두거나 특정 방향으로 가속시킬 수 있음RF Generator : 13.56MHz * 반도체 CVD Etcher 의 Main 전원으로서 Chamber 내에 플라즈마 형성* 13.56MHz 경우 파장 특성상 안전성이 좋아 공정용에 적합* 최..

[반도체 공정 이론] 전반적인 반도체 제조 공정 | Photo 공정

집적회로 만드는 과정 (IC, Integrated Circuit)1. 설계 --> 2. FAB 공정 : 전공정 --> 3. Packaging : 후 공정* 설계 : 반도체 미세회로 설계* 전 공정 : 반도체 미세회로 제조* 후 공정 : Wire Bonding, TSV 배선공정, 보호막 등반도체 8대 공정1. Wafer 제조 --> 2. 산화막 형성 --> 3. Photo 공정 --> 4. Etching 공정 --> 5. 박막증착 (CVD, PVD) --> 6. 금속막(배선) --> 7. 측정 --> 8. 패키지Photo Lithography 공정노광 장비의 정의노광 (Stepper Exposure) : Reticle (Mask) 에 빛을 통과시켜 웨이퍼에 회로를 그리는 공정회로패턴이 담긴 마스크에 빛을 ..